Сэмплирование (Глобальное Освещение CineRender)

Этот параметр, являющийся частью дополнительных настроек эффекта Глобального Освещения, становится доступен при активации Детального отображения Диалога Параметров Визуализации с использованием механизма CineRender.

Изменение параметров Сэмплирования влияет только на расчет рассеянного освещения, определяя количество и способ создания сэмплов. Сэмплы можно представить как лучи, проецируемые из точки затенения (называемой также "основным сэмплером") на поверхность воображаемой полусферы.

Настройки Сэмплирования влияют на сэмплирование ГО, выполняемое при использовании Кэша Излучения или QMC в качестве Основного Метода (если эти варианты также используются в качестве Дополнительного Метода, то это значение применяется лишь частично):

Приведенное ниже изображение иллюстрирует действие Режима Глобального Освещения QMC.

На расположенной выше иллюстрации:

•Слева (Дискретное Сэмплирование Поверхностей и Дискретное Сэмплирование Неба отключены): В точке первого отражения некоторые сэмплы отражаются в направлениях полусферы (Полусферическое Сэмплирование).

•В центре (Дискретное Сэмплирование Поверхностей включено, а Дискретное Сэмплирование Неба отключено): Полусферическое сэмплирование дополняется отражением некоторых сэмплов в направлении Порталов и Светящихся Поверхностей (полигонов).

•Справа (Дискретное Сэмплирование Поверхностей и Дискретное Сэмплирование Неба включены): Полусферическое сэмплирование и сэмплирование Светящихся Поверхностей дополняется отражением некоторых сэмплов в направлении неба.

Описываемые ниже параметры Сэмплирования в основном определяют количество сэмплов, создаваемых на Сфере 1.

На следующей иллюстрации Светящаяся Поверхность расположена в задней части помещения. Окно, находящееся в правой стене, обращено на объект Неба с наложенным изображением HDRI (в результате могут создаваться четкие тени!). Никаких других источников света в сцене нет. Изображения были созданы с использованием QMC в качестве Основного Метода (применение метода Кэша Излучения привело бы к появлению пятен, а не зернистости изображения).

•Слева (Дискретное Сэмплирование Поверхностей и Дискретное Сэмплирование Неба отключены): Не подходит для данной сцены. Изображение получилось слишком зернистым (результат того, что случайные сэмплы попали на Светящуюся Поверхность). Тени выглядят еще более зернистыми. Видны яркие точки, появившиеся в результате попадания всего нескольких сэмплов на солнце неба HDRI.

•В центре (Дискретное Сэмплирование Поверхностей включено, а Дискретное Сэмплирование Неба отключено): Общая зернистость изображения существенно снизилась, так как на Светящуюся Поверхность были направлены дополнительные сэмплы (анализ каждой точки, попадающей в обзор камеры, позволил повысить качество теней Светящейся Поверхности).

•Справа (Дискретное Сэмплирование Поверхностей и Дискретное Сэмплирование Неба включены): Полусферическое сэмплирование и сэмплирование Светящейся Поверхности было дополнено отражением сэмплов в направлении неба. Это позволило избавиться от ярких точек, поскольку каждая точка, попадающая в обзор камеры, была точно проанализирована с учетом свечения неба (включая его влияние на остальные элементы сцены).

Как правило, Дискретное Сэмплирование следует оставлять включенным. Дискретное Сэмплирования следует отключать только в особых случаях. Скорость визуализации практически не снижается, если в сцене отсутствуют Светящиеся Поверхности или солнце.

Описание следующих настроек относится к Основному Методу QMC. Это описание применимо и для Кэша Излучения, за исключением того, что сэмплирование выполняется для каждой точки затенения, а не для каждого пиксела.

Случайные Сэмплы

Метод: Возможно использование одного из двух методов определения количества сэмплов:

•Автоматическое определение, использующее предварительно определенные настройки качества (Низкое, Среднее, Высокое, Специальная Точность)

•Фиксированное Количество Сэмплов, определяемое значением параметра Количества Сэмплов

–Выбор Специального Количество Сэмплов позволяет задать это значение вручную

–Выбор Специальной Точности позволяет вручную указать значение Точности

Точность: Этот параметр используется для определения оптимального количества сэмплов. Это оптимальное количество зависит от детализации Проекта (а при выборе для Глобального Освещения режима IR и от других настроек Кэша Излучения) и, безусловно, от заданного значения Точности.

Количество Сэмплов: Этот параметр определяет фиксированное число используемых сэмплов. Повышение этого значения приводит к повышению качества визуализации (для режима QMC это отражается на зернистости изображения, а в случае IR – на уменьшении количества пятен).

Повышение Количества Сэмплов (слева направо)

Это Количество Сэмплов используется также для Дискретного Сэмплирования Поверхностей и Дискретного Сэмплирования Неба при отсутствии для них специально заданных значений количества сэмплов (см. ниже).

Дискретное Сэмплирование Поверхностей

Отметьте маркер Использовать Учет Области, чтобы активировать этот метод.

Для обеспечения работы этого варианта сэмплирования в канале Освещения Покрытия должен быть отмечен маркер использования Светящихся Поверхностей GI.

См. Освещение (Канал Покрытия CineRender).

При использовании этого метода на Светящиеся Поверхности направляются дополнительные сэмплы. Это позволяет уделить им особое внимание, что существенно влияет на качество Глобального Освещения.

Слева Дискретное Сэмплирование Поверхностей отключено, справа - включен.

Обратите внимание, что даже при отключении этой опции Светящиеся поверхности не будут исключены из расчета GI. Просто этим источникам света не будет уделено особое внимание, и они будут рассчитываться на основании попадающих на них случайных сэмплов (с соответствующим результатом, отражающимся на зернистости итогового изображения).

Попиксельно: Использование этого варианта дает результат только в случае использования Кэша Излучения в качестве Основного Метода. В нормальной ситуации каждый источник света учитывается при создании Кэша Излучения. Однако этот метод не работает в случае присутствия в сцене слишком мелких и ярких Светящихся поверхностей, так как приводит к образованию пятен на итоговом изображении. При активации этой опции выполняется отдельный от кэша расчет излучаемого Световыми поверхностями света для каждого пиксела (поверхностей объектов, исключая при этом фон, небо и т.д.), влияющего на освещение сцены. В режиме QMC такой порядок действий используется по умолчанию.

Слева Попиксельный анализ отключен, а справа включен.

Специальное Количество/Количество Сэмплов

Эти поля используются для указания специального количества сэмплов. При отключении параметра Специального Количества, используется то же Количество Образцов, что и для Случайного Сэмплирования.

Дискретное Сэмплирование Неба

Отметьте маркер Использовать Учет Неба, чтобы включить данную функцию.

Активация этого режима приводит к отдельному сэмплированию неба (Физического или HDRI).

Карта неба рассчитывается с помощью специального алгоритма, в первую очередь сосредотачивающего дополнительные сэмплы на ярких областях. Это означает, что достаточно контрастные HDRI-текстуры позволяют создавать тени и очень светлые участки поверхностей.

Освещение создается только при помощи текстуры HDRI, наложенной на объект Неба.
Обратите внимание на относительно четкие тени (слева эта опция отключена).

Деактивация этой опции, НЕ исключает небо из расчета Глобального освещения. Просто небу не будет уделено отдельное внимание, и оно будет рассчитываться на основании попадающих на него случайных полусферических сэмплов (при этом очень яркий солнечный свет может стать причиной появления зернистости).

Попиксельно: Использование этого варианта дает результат только при использовании Кэша Излучения в качестве Основного Метода. После создания Кэша Излучения выполняется сэмплирование неба, которое затем учитывается в кэше. Этот метод имеет свои ограничения, и при наличии ярких участков (солнца) или мелких поверхностей на итоговом изображении могут появиться пятна.

При активации этой опции выполняется отдельный от кэша расчет излучаемого небом света для каждого пиксела (поверхностей объектов, исключая при этом фон, небо и т.д.), влияющего на освещение сцены. В методе QMC такой порядок действий используется по умолчанию.

Объект Неба с наложенной на него HDRI-текстурой располагается за окном.
Слева Попиксельный анализ отключен, а справа включен.

Специальное Количество/Количество Сэмплов

Эти поля используются для указания специального количества сэмплов. При отключении параметра Специального Количества, используется то же Количество Образцов, что и для Случайного Сэмплирования.