這些設定可用，作為可選的全局照明效果的一部份，用於Cineware引擎的照片渲染設定的詳細設定。
如果GI方法被設定為輻照度緩存(衍生)這些參數可用。
更多訊息，參見用於主要方法的選項。
一般來說，在這些附加設定中的預定義值不能被修改。
常規
插值方法
不同的算法可以用來計算光線和黑色區域之間、顏色值之間和斑點之間的透明。
•最小平方：這個函數本質上是基於有限數量的計算曲線點。
•德勞內類型：與最下平方插值法相比，只有鄰近的記錄,而不是那些很遠的記錄將包括渲染的插值中。但是，為了實現均勻的光色散，記錄密度也被稱為陰影點密度，應該非常高。記錄密度參數提供幾個的德勞內預設選項，可用於該目的(見下文的 記錄密度)。
德勞內選項實際上是用於特殊情況,並不適合用在“正常”的渲染。
•無：如果選擇該選項，不平滑。
•加權平均：這種插值方法類似於最小二乘法，除了在值之間插入(反之最小二乘法可以推斷，例如，結果比由定義值代表的結果跟命令或更黑暗)。當使用低質量的GI設定時，該方法可以防止工件。此外，該方法比最小二乘法渲染的更快。缺點：光色散比使用最小二乘法時不均勻。
距離映射
關於圖像像素的總數，如果只有極少數的陰影點內插，首先將創建柔軟的陰影，很多細節將丟失或太平滑。例如，這可能導致光線從多邊形中滲出。例如：以日光的形式從外墻中滲出並且在房間的任何位置可見。啓用距離映射選項可以防止這種情況發生- 當將相應的增加渲染時間。
檢查記錄能見度
與距離映射的功能相似，該選項的目的在於阻擋光從多邊形中滲出。啓用該選項將包括一個物件，它不直接位於相機的視圖線上。
該值定義了密度值和預通過階段中陰影點的散佈。收集隨機樣本的這些陰影點的訊息稍後將被插補在陰影點之間來創建柔軟過渡。存在的陰影點越多，場景中明亮區域和黑暗區域之間的過渡更精確- 並且預通過和總體的渲染時間將增長。
實現方法：該參數包含預設情況下被大多數優化使用的預定義的參數集。只有在特殊情況下，您可以修改選項來自定義 並自己修改這些參數。
•預覽：顧名思義，預覽將很快的渲染- 用相應的“窮”值使快速渲染成為可能。這些 "窮"值將導致丟失很多GI詳圖或錯誤的渲染。
•低/中/高/高 (詳圖): 這四個選項是使用最小二乘插值法的優化並導致不同等級的質量。
•低(德勞內)/中(德勞內)/高 (德勞內): 這三個選項被設計用於德勞內插值法。該插值法要求陰影點的分佈更密集。
最小比率/最大比率
當程序創建了一個輻照度緩存時，它最初用較低的圖像分辨率開始(最小比率)發展到最後的IR分辨率 (最大比率)。值為0是導致全分辨率(像素大小1*1)，值為-1時導致一個像素大小為2*2，值為-2 = 導致一個像素大小為 4*4等等。最小比率值在邏輯上比最大比率值小。也可以使用正值，它允許緩存記錄在子像素範圍中(如果細節丟失，對於子多邊形的位移是有用的)。
這些分辨率僅適用於IR計算。由於輻照度緩存可以相對簡單的測量(例如，在較大的圖像分辨率中較低的IR分辨率)，即使當使用較小的分辨率時也經常能獲得較好的結果。因此，這兩個參數提供極大的潛能來縮短渲染時間，尤其是對明亮的照明，低細節的場景。
半徑
該參數定義了陰影點之間的最大距離。值越低，放置在一起的點越密集。該參數主要影響場景的非臨界區域，例如平的，清晰的表面。該參數的效果也依據密度控制數值。
最小半徑
該參數定義了陰影點之間的最小距離。. 它主要影響場景的臨界區域，例如角落、邊緣等。值越低，位於這些區域中的陰影點越密集。該參數的工作與上述的半徑參數成比例，例如，如果該值平均分，最小半徑值也將平均分。
最小半徑參數主要影響細節是重要的區域(例如，稀薄的陰影)。但是，該區域中太多的陰影點可能引發問題。
為讓稀薄的詳圖可見，使用詳圖增強參數代替。
見下面的細節強化。
密度控制
與先前兩個參數形成對比，主要影響臨界的和非臨界的區域，該參數在全局上影響遍及該場景的陰影點。值越高，密度越大。
使用鄰近校正
該參數對在臨界區域中互相“幫助”的臨近的陰影點負責，並傳遞關於臨近的幾何結構的訊息。在該過程中將創建並計算新的陰影點。
這種行為可以在這裡被禁用，將節省一些渲染時間而且導致較差的渲染質量(特別是在角落和邊緣上)。如果您使用的小於0的最大比率值，該選項應該被禁用。否則將產生不必要的計算。
平滑
增加平滑效果導致更多的詳圖丟失，而且光色散更均勻。
•實現方法：使用彈出式視窗來定義平滑的等級。選擇 自定義 來手動定義下文中的記錄和標度值。
記錄和標度值限制了將使用的陰影點的數量。
•記錄：記錄參數為每個渲染的像素定義了在輻照度緩存的記錄週圍的最大數量，它應該包含在該像素的顏色和亮度的插值中。但是，如果標度值如此低，以至於在插值中沒有包含足夠的記錄，它可能導致較少的記錄被包括。
參數值越低，越少的記錄將被包括在插值中，渲染不均勻並且被關閉。較高的值將導致更平滑，並且相應的增加渲染時間。
•比例：該參數有助於在空間上限制包含在插入過程中的記錄。值越大，越多的記錄將被儲存並且插入越柔和 - 並且渲染的時間越長。或者記錄參數可用於該目的。
緩存細化
先前描述的參數都依據場景的幾何性質用陰影點的放置處理。但是如果粗糙，黑暗的GI陰影將妨礙整個圖像？
這是緩存細化參數的由來：它比較了輻照度緩存中的記錄並在高對比度(亮度和顏色)的區域中生成了附加記錄(例如，陰影點)，以便更準確的細化並渲染這些區域。
提示：細化緩存可以極大的增加輻照度緩存中記錄的數量，不一定會提高渲染質量。特別是當與錯誤的平滑一起應用時，這可能導致非常模糊的結果。因此，如果絕對必要，只需要細化緩存。
較高的緩存細化設定將導致渲染時間增長但不一定改善渲染質量。
通路 [0..4]: 使用該設定來設定定義緩存的頻率。每個新的通路包括先前通路的結果並通過在臨界區域中創建額外的陰影點來進一步細化它。
顏色閾值：該值定義了等級，在額外的陰影點(“樣本”)被添加前，關於它們的顏色（強度）緩存記錄可以相互偏離。值越低，偏離闕值越低並且越多的樣本被添加。
頂部: 緩存細化之前。底部: 緩存細化之後。
左：顏色閾值較小，右邊：顏色閾值較大。
截止：該值包含了強度的差異。值越低，必須應用顏色校正的記錄之間的差異就越大。數值為0時，將關閉緩存細化。
強度：該參數別用來調整緩存細化的整個樣本密度。值為0時將關閉緩存細化，反之，當考慮顏色闕值和借支數值時，較大的值將相應的增加陰影點(“樣本”) 的數量。
輻照度緩存方法渲染了無噪聲的並且比其他採樣方法更快，但是需要對位於陰影區域中的詳圖妥協。這回導致遺漏細節，例如在平滑過程中的瓷磚注漿。通過想這些區域專門發送額外的樣本啓用細節增強將抵消它。效果與環境光遮蔽類似。
簡而言之：強調微妙的幾何細節。
為節省渲染時間並避免過分強調細節，應使用環境光遮蔽或細節增強選項，但不是兩個都用。兩個都用可以是精美的細節在視覺上佔優勢。因為啓用細節增強選項將發送額外的樣本到場景中，您也可以考慮減少記錄密度值。
細節增強參數包括抵消輻照度緩存特點的選項- 細節的“模糊” (平滑)，例如稀薄的陰影。在諸如角落、邊緣、腔體等的臨界區域中(對每個相關的像素)使用QMC採樣方法來增強細節。細節增強功能可以被看作是包括間接照明的環境光遮蔽的一個特殊類型。
注意，如果該選項被禁用，內部的輻照度緩存將計算不同(該算法將意識到後續細節增強和計算臨界區域的不同)。但是您這樣做了，每個已渲染圖像的細節增強將被單獨計算，例如，重新使用一個已儲存的緩存將減少渲染時間。.
如果您應用細節增強，您可以減低其他輻照度緩存設定(特別是與記錄密度有關的)。
•細節強化：勾選該複選框來啓用細節增強參數。
•自適應：啓用該選項在某些情況下是一種優勢，例如，幾個小區域比其他的更模糊。附加樣本稍後將在這些區域中渲染。
•評估二級：該模式渲染的更快並為大多數應用程序提供了良好的結果。但是，某些區域將被渲染的太黑或太多彩，與單純的QMC渲染(GI 模式QMC)截然相反, 這在多數情況下並不重要。必要時，這種行為也可以被禁用(注意,可以產生模糊的渲染,在這種情況下,質量比率值應該提高)。
•半徑：使用該設定來定義半徑，應包含在臨近物件、角落和邊緣中。較低的值導致立即接近並“看到”的只有元素，反之，較大的值將“看到”相對較遠的元素。較大等的值也將導致較高的精確度，因此增加渲染時間。
•質量比：如前所述，QMC採樣將發生在臨界區域。質量比率定義每個像素應該使用多少個樣本，進而簡單地定義了細節增強的顆粒度。較大的值導致較少的顆粒，柔和的結果但需要相應的增長渲染時間。
質量比是一個自主的值,與剩餘的IR設定無關(值為100%相當於64個樣本)。
•模式：在下拉選單中的該選項僅用於實驗目，因此細節增強的效果通常是非常微妙，也可以更加清晰可見。您可以從下列選項中選擇：
–結合（正常）：渲染精確地結果。
–僅詳圖(預覽) 渲染細節增強，而不用GI。使細節增強在所有選項中都盡可能的可見。
–僅全局(預覽) 僅渲染間接照明。