著色器的組合可以在表面通道的紋理彈出式視窗中的著色器效果子選單中找到：
這些著色器列表如下，並勇氣參數適當說明。
用於Cineware的環境光吸收可以在界面中的兩個位置找到：
•在表面中，作為一個通道著色器 (見截屏)。
•在照片渲染設定中 (詳圖視圖)，作為一個全局影響並在渲染設定的整個場景中進行計算。
兩個位置中的AO選項是完全一樣的。
這些著色器都與收集光線有關。有些表面向內直射光的能力，在那裡它被分散(例如，蠟燭或毛玻璃)。
例如，通常，光只能直接照射到一個物體的表面，不能進一步從位於陰影區的物體背面照射到其前面。幾種著色器來用它們自己的放置幫助解決這一問題。
這些著色器應該被加載到亮度通道中。在該通道中，這些效果產生的亮度可被用作一個照明效應或被添加到表面的亮度。
ChanLum
從外在物體表面定義的距離，ChanLum著色器觀察物件和樣品周圍的環境和光線。光線稍後別用於照亮物件的表面。根據物理的世界，這可能是不現實的，但通常能足夠精確的模擬不滲透進給定表面太深的光線。
次表面散射
該著色器導致光線穿透其中光被分散的表面。如果物件中光線的路程小於定義的值，光線可以再次出現在不同的位置。該著色器非常適用於背光物體。
在這裡，被從上方光線簡單照亮的蠟燭在這裡模擬火焰。該光源只能照亮蠟燭頂端的表面。
這與被添加到蠟質表面亮度通道中的ChanLum著色器的場景一樣。您可以看到繼續圍繞在蠟燭上邊緣的光線是如何到邊的。它看上去也像滲出邊緣一點的燭光。
這裡，子表面散射著色器也被添加到亮度通道中。光線現在影響了蠟燭上半部的很大一部分，但不能很好的突出邊緣。這種類型的照明場景不適合子表面散射，因為在視角和光線之間有一個小角度。
這裡，通過在蠟燭後面放置光源來增加視角：現在子表面散射著色器是適當的：實際上，光亮照徹蠟燭並且頂部邊緣也受到影響，我們要把這歸功於更強烈的光線。
背後照明
允許您從一個物件的背面收集照明。這提供了建立有背後照明的半透明效果的能力，例如，從對面連同陰影照亮的米紙或薄葉。
算法: 使用該設定來定義用於背後照明的著色算法。
•內部的 相當於常見的Phong著色。
•對於 Oren Nayar， 見 模型。
•簡單根本不生成著色 ，因此背光物件用均勻的亮度渲染。這特別適合非常薄的表面，諸如樹葉，草的葉片等。
失真器接收一個輸入通道的值並使用另一個紋理通道中的值來使其失真。
類型：使用失真算法。
–定向: 失真通道中的值被添加到紋理的樣品座標中。
–雙向: 如果失真通道中的值在50-100% 之間，將被添加到紋理的樣品座標中，如果失真通道中的值在0-50% 之間，將被被從紋理的樣品座標中減去。
–流場: 失真值是由評估變形紋理的流向所決定的，然後流向向量用於偏移紋理的樣品座標。
包裹：包裹功能控制發生在已失真的且現在位於UV映射之外的紋理部分。這些可以被忽略(無)，重複 (循環)，切斷 (夾緊)或鏡射(無縫)。
數量：全局失真總量。100% 意為失真值在UV中從0到1，在3D中從0到10。
X/Y/Z：X是用於2D的U和用於3D的X的失真總數。Y是用於2D的V和用於3D的Y的失真總數。Z 是用於3D的Z的失真總數。
德爾塔：德爾塔是在紋理抽樣中使用的比例因數，用於評估凹凸貼圖中使用的傾斜率。這可以讓您得到非常尖銳的凸起與微小的細節，是不可能有標準的凹凸德爾塔。
步驟：相關步驟大小可用於評估流場失真類型的流向。
紋理：這是用失真器紋理扭曲的源圖像或著色器。您可以引進或影響可用於Cineware的任何圖像或通道著色器。
失真器：失真器紋理被用來扭曲通過紋理定義的紋理 (見上圖)。失真器圖像或著色器的值被用在變形算法中來位移紋理的取樣。
衰減計算在自定義向量和曲面法線之間的衰減。當向量與曲面法線一樣時，值是１，當它完全分離開時，值是０。衰減稍後使用漸層重新映射值。
著色器設定相同，僅向量不同
方向 [XYZ]: 從3D空間中衰減的向量。
空間：計算空間中的衰減。
•物件：向量在物件座標中指定並且衰減受物件的方向(以及紋理軸方向)的影響. 這樣，因為它修改了旋轉，衰減緊隨物件。
•世界：在世界座標中指定向量並且不受物件的方向的影響。這是最常見的設定，因為它允許物件移動並且衰減停留的方向始終如一。
•相機：在與相機方向有關的座標中指定的向量。這樣，不管相機或物件的方向，向上始終是向上的(例如，在相機視圖中)。
使用碰撞：如果啟用，碰撞常常被用來計算衰減。如果禁用，那麼碰撞通常是被忽略的。
漸層：被用作衰減的漸層重新映射值。
Lumas是一個照明著色器，包括三個高光高光並且有能力模擬各向異性劃痕，尤其是往往會產生瘦長的高亮。
各向異性效果是表面的鏡射，由小的，不明顯的劃痕造成。您可能已經看到了這種影響往往是在較舊的金屬表面上以同心劃痕的形式出現。
Lumas在結合融合與其他通道著色器或圖像時是有用的。
•漫反射活躍
•漫反射顏色：設定表面的基礎漫反射顏色。
•漫反射算法：指定將要使用的照明模型Lumas。
–內部 是標準的傳感器模型
–Oren Nayar, 提供了一個粗糙的變量，允許用戶從簡單表面(0粗糙度， 與傳感器相同)到複雜的粗糙表面(1+ 粗糙度，提供了一個啞光表面，例如亞麻或灰塵)。
•漫反射粗糙性：規定了Oren Nayar照明模型如何粗糙。0是霧粗糙度，而100%或更高是非常粗糙。實驗需要完全理解這個參數。如果在算法下拉式列表中選定Oren Nayar，僅該選項可用。
•照明：縮放顏色來產生在該表面照明上的衰減(這只是意味著當值接近0時顏色越暗，當值接近100%或更高時，顏色越亮)。
如果您使用Oren Nayar照明運算法，您可能想要增加10%-20%的照明，因為它通常呈現較暗的亮度。適當值在0% 到200%之間。
•差異：提供顏色的結果對比。0導致沒有效果，0% - 100% 導致標準對比，超過100%導致環繞對比(超過100%的值再次回到0%)，負值提供了一個看起來好像發光的模擬表面的反向對比，例如銀。適當的值在-500% 到500%之間。
鏡面高亮設定 (Lumas著色器)
在反射比通道中被控制的鏡面高亮添加到表面顏色中。所有三個鏡面高亮共享相同的參數設定，詳情如下。
•活動：使用該複選框單獨啟動或註銷每個高光光。
•顏色：設定用於高光組件的高光顏色。
•亮度：測量顏色來產生在表面的高光反射上的衰減(這只是意味著當值接近0%時顏色越暗，當值接近100%或更高時，顏色越亮)。適當的範圍是0% - 1,000%。
•大小：設定高光反射的大小。大小的適當值範圍是0.001% - 200%。
•差異：提供高光樣本顏色的結果對比。實施一個標準的對比功能。適當的值在0% - 100%之間。
•眩光：使用邊緣衰減的強度(乘以衰減數量)來修改高光反射的強度。當光線在一個邊緣上反射更多時，它可以被用來向表面中增加眩光，或者當光線引起的反射更接近邊緣時，高光效果減少高光反射。適當值在0% - 200%之間運行。
•衰減：利用物件到邊緣中心的不同衰減來影響眩光強度。較小的值引起的高光反射更多的是反映強度值，而較大的值讓表面使用更多的眩游標量。實驗需要完全理解這個參數。
各向異性：各向異性的性質是定向依賴 (相對於各向同性，這意味著在所有方向上有相同的屬性。)
投影：投影的類型被用來定義高光高光的失真(不成比例的) 比例。它也可以定義與反射和環境卷積組一起使用的劃痕方向。
–平面：A 平面XY平面投影
–自動平面 自動投影在與當前常規平行的平面上。
–收縮包裹：擴展方向上的球形投影，但是對投射的劃痕使用單獨的計算方法。
–徑向自動平面: 自動投影在與當前常規平行的平面上。
–徑向模式自動平面: 建立一個與當前常規平行的多源徑向劃痕模式。
–徑向平面: 建立一個與當前常規平行的徑向劃痕模式起源。
–徑向模式平面: 建立一個與當前常規平行的多源徑向劃痕模式。
投影比例: 標度有真實模式的劃痕計算法(徑向模式是應用到當前模式的唯一算法)。
X粗糙度/Y粗糙度: 測量由劃痕投射算法定義的X和Y方向上的高亮。適當的範圍是 0.1% to 10,000%。如果X & Y的粗糙度相同，使用標準的內部高光算法。
高光1/高光2/高光3: 這些複選框指定將受到各向異性抓痕影響的高光通道。
振幅：測量高光高光抓痕的效果。值越高，高光上將看到越多的抓痕。適當的範圍是0% - 100%。
比例：測量抓痕模式自身。這適用於所有的抓痕計算。
長度：定義在抓痕模式距離內的抓痕長度。平滑的研磨面將使用一個更高的抓痕長度， 並且粗糙的表面將使用一個較小的值。適當的範圍是1% - 1,000%。
衰減：根據樣品、相機角度和到相機的距離測量劃痕的詳細數量。值越大，衰減越大，產生的劃痕越少(更適用於動畫)；值越小，細節越多 (更適用於靜止圖像)。適當的範圍是 0% - 1000%。
依據其曲面法線的方向，該著色器給物件著色。法線指向渲染光線的表面獲得顏色1，其他表面獲得顏色2。
使用等化器著色器(放置在正常通道中)，您可以使用通常使用在正常通道中凹凸貼圖上的常見紋理 。等化器評估了與確定的邊緣定位的對比，並使用該訊息來計算法線貼圖。
作為提醒：法線和凹凸貼圖基本上是相同的工作。當渲染和想象一個詳圖結構時，在RGB圖像中中編碼的信息影響了一個目標的(幾何結構)表面法線。與凹凸貼圖相反，法線貼圖也可以“改變”法線的方向，使創建逼真的效果成為可能(注意下圖中凹凸貼圖上的高光光)。
左邊顯示的紋理分別放在凹凸通道和常規通道中
像素著色器建立一個像紋理分佈的像素。
假設您想設計一個由在表面上相同顏色中的小區域組成的紋理(例如，一個TFT顯示)。您會希望每個像素近距離看起來也不錯。這就是像素著色器發揮出它魔力的地方 - 它建立了一個合適的“像素顆粒” 而無需改變它原來的紋理。
最右上方：使用像素著色器；最右下方：未使用像素著色器；
注意：像素著色器只與2D著色器和紋理一起工作。例如，當使用噪聲著色器時，空間選項應被設定到UV (2D)
投影儀允許您改變著色器或圖像的投影。這對於在表面中單獨通道里的不同映射很有用，特別是當在與其他著色器，例如融合一起使用時。注意3D著色器不使用投影儀。
紋理：這是將要投影的源圖像或著色器。您可以引進或投射可用於Cineware的任何圖像或2D通道著色器。
投影類型：
•球形的
•圓柱形的
•平面，立方體
•前面的
•收縮包裹
•空間的
•UVW映射
偏移 X/偏移 Y: 在UV中2D紋理的偏移。
長度X/長度Y: 在UV中2D紋理的縮放比例。
瓦片X/瓦片Y: 在UV中2D紋理的瓦片。
瓦片: 如果啟用，2D紋理將在UV中鋪以瓦，在瓦片X和瓦片Y參數中指定次數。
無縫: 如果瓦片被啟用，那麼啟用無縫引起瓦片鏡射，結果是瓦片無縫。
位置 (X/Y/X): 3D紋理空間的位移。
大小：3D紋理空間的縮放比例。
旋轉 (正面/傾斜/彎曲): 3D紋理情況的方向。
對於稜鏡或彩虹色效果來說光譜著色器是理想的，例如閃光的珍珠。
該效果的計算需要考慮照相機的角度以及光源和表面之間的角度。通常，光譜著色器應該主要用於鏡面圖層(在圖層下：顏色)在反射比通道中。
亮度：控制顏色反應的整體亮度。值是0意味著根本沒有效果，而較大的值導致更明亮的顏色反應。
變化定義了在已定義的範圍中重複漸層的次數。
變化設定為1（左）和2（右）
超出範圍類型：如果超出範圍類型控制項與變化參數結合，那麼漸層如何重複。試驗停止， 鏡射 和 瓦片 模式來查看效果。
•使用停止時，漸層只應用一次並且最後一個顏色被用於超出範圍的外部面積。
•使用鏡射時，當它重複以避免縫隙時，鏡射漸層。
•使用瓦片時，依據變化值重複漸層。
光譜：光譜漸層定義了用於光譜反應的顏色。
使用CD 效果：如果您啟用該選項，著色器優化了圓柱體並且您可以呈現楔形，稜鏡色彩效果，諸如在CD表面裡看到的效果。
寬度: 寬定義了漸層展開有多遠。
左：寬度更大；右：寬度更小
尖頂：通常的，只有當在光源和相機之間的角度形成一條直線時，整個彩虹的色譜是可見的。增加峰值允許您生成一個較大的色譜。
W 因素：依據表面的中心，定義稜鏡效果的起點。值是1時，漸層從表面精確地中心開始。值大於1時，梯度的位移遠離中心，當值小於1時， 它更轉向中心。
Ｗ因素為1.5、1和0.7
漫反射強度：漫反射強度控制光譜效果的強度。增加值導致色彩過嚗失去細節。
漫反射變化：通過從漸層中引進隨機顏色來散步光譜的效果。
較小和較大的漫反射變化值
前端：定義光譜漸層如何投影到表面上，依據物件的座標系統。如果您不能立即看到CD效果，您可能需要調整該參數。
使用該著色器來模擬一個稱為“薄膜”或“干預”效果的物理效果。此效果發生在每個薄且透明的表面上- 例如，當光譜的顏色在肥皂泡、水的油膜、珍珠母的表面上閃爍。
要渲染逼真的結果，必須建立真實的照明設定（例如，使用物理天空、發光反射器）。
只有將薄膜陰影加載到通道的圖層顏色選單的反射性通道材質字段（以Beckmann或GGX圖層優先) ，它才能正常運作。應禁用鏡面圖層。
小貼士：
–對於肥皂泡，應啟用透明通道以及添加劑 。
–確保使用合適的反射物件；HDRI材質可被應用與填空物件或使用具有發光材料的圖層。
–此效果應可用於材料上，如皮革、橡膠和金屬等等。
變異著色器允許在您的場景中簡單生成“隨機性”。
效果可應用於廣泛的模擬中：
•岩床：變異著色器確保所有岩石看起來都是獨特的。
•當所有葉片都具有細微的差異時，枝葉看上去就更加自然。
•在單個騎車油漆材料上設定變異著色器，並將其應用於停車場中的所有汽車-- 著色器自動為每輛騎車定製油漆作業。
•渲染書架上的書籍：應用變異著色器到書籍封面材料，毫不費力地使得所有書籍看起來不同。
變異著色器是設計用於常規物件和層級工具（帷幕牆、樓梯、欄杆）。一般來說，該效果對於某些需要變化的對象最有效，並且不值得花費較多的精力手動生成自定義材質。
變異著色器，根據渲染時自動生成的種子值，通過生成隨機數量工作。然後根據用戶定義的強度隨即數量，調制該輸入材質的屬性。效果雖然微妙，但也徹底花哨。
著色器不限於在色槽中使用；在凹凸貼圖上使用變異著色器也可以產生有趣的效果。
也允許基於多邊形表面ID進行推廣，這使得它非常適用於諸如葉子的緻密網絡，而不需要將葉子分割成單個物件 。
推廣模式
推廣模式控制隨機數基於哪個數據類型。基於您對推廣模式的選擇，可以達到不同類型的效果。
限制：注意，添加或移動物件到場景可能會改變種子值。渲染順序時，這可能是一個問題，因為變異將會隨機地一震一幀的改變。
•種子：種子值控制如何產生隨機數。如果您對將要生成的變異不滿意，請使用此數值影響隨機數的生成。
•物件變化
–禁用: 應用相同的變異著色器的不同的物件，將不會發生變化。
–物件層次結構: 如果變異著色器被應用於是層級一部分的一個物件：在此模式中，所有子物件將應用相同的顏色，即，不會變化。它只會在每個層級上發生變化。
–物件: 分配著色器的每個物件（包括，下級層次結構中的物件）將發生變化（只要下列任何設定不對此進行阻止）。
–父母: 如果它們共享一個母元素，同一層級上且具有相同變異著色器的物件將不會應用變化。子物件也不會發生變化。
•多邊形變化
–多邊形: 每個多邊形的材質都不同。
–多邊形步驟: 可能會，例如，使用大量連貫的多邊形組建立一棵樹的葉子It 。例如，一片葉子可以包含6個多邊形（可彎曲），一棵樹木可數百次複製該葉片。如果變化在一個6個多邊形組內是恆定的，但是對於其他6個多邊形組是變異的，則定義葉子的多邊形數量（此例子中為6），而且6個多邊形的步驟中將發生變化。然而，只要有一片葉子具有不同的多邊形計數，此功能將無法正常工作！設定此數值為1，以為每個多邊形建立變化。
–禁用: 多邊形不會有不同的變化。
•概率：控制著色器對任何給定物件應用變化的可能性。概率為100%時，所有物件將接受變化 。概率為50%時，變化不會僅僅應用於半個（大約）物件。當著色器決定不應用變化，輸入材質不會更改。
•全局樣板：控制基於輸入材質的變化的整體效果。
顏色變化
這些設定定義應使用哪個材質，以及哪些顏色應隨即混合使用。
•著色器
–活動
–概率
–貼圖：這是主要輸入。在此插入任何著色器或材質。
•二次結構。例如，您可以引用落葉紋理，使得一個看起來無聊的樹更加有趣
–二次結構混合。控制應用二級紋理的最大強度。根據種子值，此數值是隨機的
–二次結構模式: 選取應用紋理的混合模式。
•漸層：使用以下色彩模式，從將被選取和應用的隨即顏色中定義一個漸層。
–漸層混合: 控制應用漸層顏色的最大強度。根據種子值，此數值是隨機的。
–漸層模式: 選取應用漸層的混合模式。
注意：在“替換”模式，紋理混合設定不起作用；紋理 以100%不透明度應用。這在與概率參數組合使用中有用
–隨機顏色: 生成一個隨機的顏色，並將其與輸入紋理混合到一個指定的數值。
–隨機顏色模式: 選取應用紋理的混合模式。
分級變化
色彩漸層選項都以相同的方式工作：數值控制荼毒參數的最大偏移量。例如，對比度滑塊數值為0.5，著色器將隨機在-0.5和0.5之間調整對比度。
•差異: 隨機增加或清除對比度到一個指定的數值。
•伽瑪: 隨機變化伽瑪到一個指定的數值。
•倒置: 隨機倒置輸入的紋理到一個指定的數值。
•色調：隨機切換顏色色調到一個指定的數值。使用低數值建立看起來自然的顏色變化。較高數值將產生五顏六色的效果。
•飽和：隨機增加或減少顏色飽和度到一個指定的數值。根據色調參數，使用低數值建立看起來更加自然的效果。
•亮度：隨機增加或減少顏色亮度到一個指定的數值。
UVW 座標變化
變異著色器不僅僅能夠混合顏色，還能移動並旋轉UVW座標。這最適合使用可重複紋理。
•座標轉換：這些設定定義最大的UVW座標左右或上下隨機移動。
–UVW翻轉X/Y：這些選項可被用於隨機垂直和/或水平鏡射UVW座標。在使用下列兩個選項定義的任意隨機旋轉之前，將進行隨機鏡射。
–座標旋轉: 此數值定義了最大的隨機旋轉（預設情況下：100% = 360°) UV座標的每個方向(旋轉中心 U、 V：0.5, 0.5, 即UV瓦片的中心。取決於下一個設定，此處計算的旋轉也將被設定為一個固定量化的數值。
–座標數字轉換: 如果UVW座標無級旋轉（0度）或以45度、90度或180度的步驟旋轉，就在此定義。這取決於UVW轉轉數值：步驟的均勻分佈只能達到100%的數值。
•座標規模: 使用這些數值隨機縮放UVW座標 。此處輸入的數值以正向和負向定義限制：例如，如果U坐標被設定為0.5，UV多邊形將以0.5和1.5倍的水平U比例之間變化。
選項
•選擇一個: 確保沒有高於1.0的數值返回。改變顏色時，它們有可能變為“太亮”（RGB數值超過255，255，255）。通常這是不需要的，可通過啟用此項來防止。但是，如果您是用HDRI圖像，此選項應保持禁用。
該著色器幫助您向您的物件中借一個風化的外觀。您可以在一個特定的方向上風化紋理，讓它看起來好像是表面受下雨、颳風或其他因素的影響。
從左到右：不變、完全風化、部分風化
著色器的 強度 控制被弄髒的紋理的強度，因為您可以在下圖中看到值從左到右的增加，分別從20% (預設值)到50%和100%。
除了強度之外，您也可以定義弄髒的紋理應該如何的光滑。光滑度的值越高，效果越光滑並且看上去更真實。在下圖中，光滑度從左到右的增加，從4 到16 (預設值)到32。
最後，強度著色器的 亮度值可以被用來定義風化的程度。可以使用一個圖像或一個著色器。在下圖中，瓦片著色器被用來建立一個水平線結構。
